Définition - Que signifie la lithographie ultraviolette extrême (EUVL)?
La lithographie ultraviolette extrême (EUVL) est une technique de lithographie avancée et très précise qui permet la fabrication de micropuces avec des caractéristiques suffisamment petites pour supporter des vitesses d'horloge de 10 Ghz.
EUVL utilise du gaz xénon super chargé, qui émet de la lumière ultraviolette et utilise des micro-miroirs très précis pour focaliser la lumière sur la tranche de silicium afin de produire des largeurs de caractéristiques encore plus fines.
Definir Tech explique la lithographie ultraviolette extrême (EUVL)
En revanche, la technologie EUVL utilise une source de lumière ultraviolette et des lentilles pour focaliser la lumière. Ce n'est pas aussi précis en raison de la limitation des lentilles.
Le processus EUVL est le suivant:
- Un laser est dirigé vers le gaz xénon, qui le réchauffe pour créer du plasma.
- Le plasma rayonne de la lumière à 13 nanomètres.
- La lumière est recueillie dans un condenseur puis dirigée sur un masque qui contient la disposition du circuit imprimé. Le masque n'est en fait qu'une représentation de motif d'une seule couche de la puce. Ceci est créé en appliquant un absorbeur à certaines parties du miroir mais pas à d'autres parties, créant ainsi le motif du circuit.
- Le motif de masque est réfléchi sur une série de quatre à six miroirs, qui deviennent progressivement plus petits afin de réduire la taille de l'image avant qu'elle ne soit focalisée dans la tranche de silicium. Le miroir plie légèrement la lumière pour former l'image, un peu comme le jeu d'objectifs d'un appareil photo pour plier la lumière et mettre une image sur un film.