Nanolithographie

Définition - Que signifie nanolithographie?

La nanolithographie est une branche de la nanotechnologie et le nom du processus d'impression, d'écriture ou de gravure de motifs à un niveau microscopique afin de créer des structures incroyablement petites. Ce processus est généralement utilisé pour créer des dispositifs électroniques plus petits et plus rapides tels que des micro / nanopuces et des processeurs. La nanolithographie est principalement utilisée dans divers secteurs de la technologie, de l'électronique au biomédical.

Definir Tech explique la nanolithographie

La nanolithographie est un terme large utilisé pour décrire divers processus de création de motifs à l'échelle nanométrique sur différents supports, dont le plus courant est le matériau semi-conducteur silicium. Le but prédominant de la nanolithographie est le rétrécissement des appareils électroniques, ce qui permet d'entasser davantage de pièces électroniques dans des espaces plus petits, c'est-à-dire des circuits intégrés plus petits qui se traduisent par des appareils plus petits, qui sont plus rapides et moins chers à fabriquer car moins de matériaux sont nécessaires. Cela augmente également les performances et les temps de réponse car les électrons ne doivent parcourir que de très courtes distances.

Certaines techniques utilisées en nanolithographie sont les suivantes:

  • Lithographie aux rayons X - Mis en œuvre par une approche d'impression de proximité et repose sur des rayons X en champ proche en diffraction de Fresnel. Il est connu d'étendre sa résolution optique à 15 nm.
  • Motif double - Une méthode utilisée pour augmenter la résolution de pas d'un processus lithographique en imprimant des motifs supplémentaires entre les espaces de motifs déjà imprimés dans la même couche.
  • Lithographie à écriture directe par faisceau d'électrons (EBDW) - Le processus le plus couramment utilisé en lithographie, qui utilise un faisceau d'électrons pour créer des motifs.
  • Lithographie ultraviolette extrême (EUV) - Une forme de lithographie optique qui utilise des longueurs d'onde lumineuses ultra-courtes de 13.5 nm.